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簡要描述：【無錫冠亞】原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置 ,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號：SUNDIZ4-5W廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-01-17訪 問 量：754| 品牌 | 冠亞制冷 | 價格區(qū)間 | 10萬-20萬 |
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規(guī)重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置
原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置
Chiller，即冷卻裝置或冷水機，是一種通過制冷劑循環(huán)來降低環(huán)境溫度的設備，在工業(yè)生產(chǎn)中，Chiller因其多種特點，被廣泛應用于多個領域，包括電子、制藥、化工、醫(yī)藥以及半導體等。
濃縮是工業(yè)生產(chǎn)中的環(huán)節(jié)之一，它通過將溶液中的溶劑部分去除，從而提高溶液中溶質的濃度。在濃縮過程中，離不開溫度的控制。如果溫度過高，可能會導致溶質變性；而如果溫度過低，則可能降低濃縮效率。因此，濃縮過程需要控制溫度的參與。
Chiller正是配套溫度控制。通過制冷劑的循環(huán)流動，將熱量從需要冷卻的介質中帶走，并排放到環(huán)境中，從而實現(xiàn)溫度的控制。在濃縮過程中，Chiller可以將溶液的溫度控制在一定范圍內(nèi)，從而確保濃縮過程的順利進行。
具體來說，Chiller在濃縮中的應用主要體現(xiàn)在以下幾個方面：
1、Chiller可以通過調節(jié)制冷劑的流量和壓力，控制溶液的溫度。這種溫度控制有助于防止溶質在濃縮過程中發(fā)生變性，從而確保產(chǎn)品的質量。
2、在濃縮過程中，適當?shù)臏囟瓤梢约铀偃軇┑恼舭l(fā)，從而提升濃縮效率。Chiller可以根據(jù)實際需要，將溶液的溫度調節(jié)到適當狀態(tài)，從而加速溶劑的蒸發(fā)，縮短濃縮時間。
3、Chiller可以根據(jù)不同的濃縮需求和工藝條件進行定制和優(yōu)化，適用于各種規(guī)模的濃縮系統(tǒng)。這使得Chiller在濃縮領域具有廣泛的應用。
除了以上幾點外，Chiller在濃縮過程中還可以與其他設備配合使用，如蒸發(fā)器、冷凝器等，共同構成一個完整的濃縮系統(tǒng)。這種系統(tǒng)可以實現(xiàn)對溶液溫度、壓力、流量等多個參數(shù)的控制，從而提升濃縮過程的自動化程度。
Chiller在濃縮過程中可以控制溶液的溫度，提升濃縮效率，還可以實現(xiàn)廣泛的應用。隨著科技和工業(yè)生產(chǎn)的不斷發(fā)展，Chiller在濃縮領域的應用將會越來越廣泛。
